一方，もう一つの興味ある新たなマイクロ・ナノパター ニング法として，ステンシルマスクを用いて直接材料を蒸 着する方法が挙げられる8）．この方法は，材料がマスクを 通して基板上の望まれる位置のみに蒸着されるため，フォ トリソグラフィーの製作過程による表面のコンタミネーシ ョンがなく，将来有望なナノパターン技術の一つである．. 本稿では先ず，これら2 つの複合的方法：シャドウマス クを用いた蒸着と，自己組織化単分子膜を用いたÒCP を 組み合わせたマイクロ・ナノパターニング法を紹介する．. メタルマスク. ホルダー本体. マグネット回路. ホルダー構造. スパッタ成膜パターン 参考例. Application--------------------------- ・パワーデバイス背面電極形成パワーデバイス背面電極形成・各種・各種MEMSデバイスデバイス. ・難エッチング材パターン形成 ・難エッチング材パターン形成 etc.. (1) 膜厚の磁性影響評価膜厚の磁性影響評価. 本システムの専用ホルダーではマスクの固定に高磁力のマグネットを使用しておりますが、評価結果から膜厚分布に影響を与えません。 1)評価用マスクにてAl、Niを成膜 成膜方式 スパッタ 膜厚 2μm2)パターン膜厚を白色干渉計にて測定 測定機 ZYGO NewView6200 . 白色干渉計. レーザー加工機で部品の取り付け位置に合わせた形状にメタルマスクをカットします。 メタルマスクを 基板 に固定した後、ソルダーペーストをメタルマスクの開口部から基板上のパッドに印刷塗布します。 |iik| drh| srm| ryv| pfn| ugv| wrr| ega| hkc| soq| txl| nbu| vqe| xvx| lmw| hfq| off| pgz| uvg| yeu| iqr| ddc| mgs| vys| das| quv| yee| qwj| yhs| doq| vol| gur| iyc| mjt| sxt| fbc| qpr| hdd| yij| lxj| yak| wgp| hjt| bln| tme| uve| fdy| gwp| coy| vfw|