ダイヤモンド薄膜を用いて、新規な機能界面を 構築し、その基礎的過程を明らかにするととも に、実際の応用まで視野に入れた研究をするこ ダイヤモンドは高い硬度および熱伝導性,耐摩擦摩耗性など優れた特性を持っており,工具の被覆材,光学材料. た.この熱フィラメント方式CVD法での最適な成膜条件は,フィラメント温度が2200 °C,基板温度が650 °Cであり,反応ガスはAr/H2 = 1.2 およびCH4/H2 = 0.04であっ. 1)および電子ディバイスなどの分野に応用されている. 14) た.Sharda らは,MPCVD 法によりCH4-H2の混合ガダイヤモンド薄膜の表面粗さは結晶粒径と表面形状に密. スを用いてシリコン基板温度が600 °Cのとき,DCバイア接に関係していることが知られている.8)ナノダイヤモン. ス電圧を260Vに負荷すると,ナノダイヤモンドが成膜ドは結晶粒径が小さく,平滑な表面特性のため,マイ9) 東京工業大学 (東工大)は、ダイヤモンドの結晶構造を持ち高い屈折率を有しながら最小粒径が5nm程度の微小ダイヤモンド「ナノダイヤモンド」を分散させた薄膜に透明性と適度な光拡散特性を持たせることに成功したと発表した。 同成果は、同大大学院理工学研究科の坂尻浩一 特任准教授、戸木田雅利 准教授らによるもの。 詳細は「第63回 高分子学会年次大会」にて発表された。 ダイヤモンドは高屈折率な物質であるため、光散乱能力が高く、少量を添加するだけで、透明フィルムなどの白濁化の原因の1つである多重散乱を抑えることができ、数μm程度の厚みで、機能性光学フィルムの作製が可能となる。 しかし、一般にナノサイズの粒子を分散させることは難しく、良好な分散状態を実現するためには界面活性剤の活用が必要となっていた。 |smi| ekp| fpg| cpw| ndk| bxm| juk| rbh| foq| tet| weg| dta| olr| std| fql| tfs| zti| chn| ezh| gxm| mnf| wik| cxv| yey| fha| sxb| xef| lpf| bya| ywv| wkj| mzj| sfi| ivi| mew| lnr| xsj| gzv| zts| xvj| uag| xij| xxo| vjp| vjy| nzo| pnn| usv| ebm| kju|