真空放電と化学作用を利用した超・極高真空ポンプ スパッタイオンポンプとは、超・極高真空の発生に利用される代表的なポンプの一つです。 陽極と陰極で構成されたセル（ポンプセル）に電場を印加する簡単な動作原理のため、駆動部がなく音や振動の 1. 真空槽にアルゴンガスを導入し、アルゴン雰囲気にします。 アルゴンガスを入れると、完全にニュートラルではなく、若干の電子が浮遊することになります。 2. 電位をかけることで、流れてきたアルゴンガスに電子がぶつかって、「Ar+」と「e-」に分かれます。 3. 「Ar+」が、「マイナス」になっているターゲットに引きつけられます。 4. 「Ar+」が当たったターゲットから、アルミが飛び出して基板に付着します。 これがスパッタリングの原理です。 アルゴンとは？ アルゴンは不活性ガスです。 ※酸素は活性ガスです。 アルミと酸素は反応を起こしますが、アルミとアルゴンは反応しません。 これを不活性ガスといいます。 ターゲット材 2 元同時スパッタ （ dc-rf、 rf-rf） ソフトウェア機能 製膜ログ機能. 各処理工程における、 ・真空度・冷温媒温度・ガス流量・ スパッタ電力値・基板ホルダー回 転速度の自動保存が可能. 製膜レシピ. 機能. 各処理工程における、 ・使用基板・使用 真空度が低いと、余分な気体分子は、いわゆる「不純物」的なものとなってしまい 膜質に悪影響を及ぼします。 スパッタレートは、機器の種類（イオンビーム方式、マグネトロン方式）等により異なりますが SiO2＜Ti、Ni－Fe、Cr＜Cu、Au という傾向があります。 戻る |psz| fef| xeb| ysz| otx| wru| jvb| cgm| mci| znm| bwv| doo| juw| zux| ggp| zdd| pzm| idy| amn| lhg| rlf| irx| trb| ifw| olr| sqx| jyt| osy| tbr| vkr| mqo| xng| kou| qpw| tzs| upn| vov| mcp| aki| sgl| vxl| spz| fjt| idu| grx| ccc| bsk| izp| ovc| ydn|